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桌面型磁控濺射鍍膜儀...磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),通過磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率,從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積
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雙靶磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備
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桌面型磁控濺射鍍膜儀...磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),通過磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率,從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積
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桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜...熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能,從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
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桌面型不銹鋼腔體熱蒸...熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能,從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
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1800度1Kg真空...1Kg真空感應(yīng)熔煉爐是真空冶金領(lǐng)域中應(yīng)用*廣的設(shè)備之一。事實(shí)證明:宇航、導(dǎo)彈、火箭、原子能設(shè)備和電子工業(yè)所需要的合金和特殊鋼
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超高溫大容量非自耗型...超高溫大容量非自耗型真空電弧爐是我公司根據(jù)科研單位實(shí)驗(yàn)要求精心研發(fā)設(shè)計(jì)的一款主要用于:熔煉難熔金屬及合金,可進(jìn)行冶煉、提純、脫氧、除雜等
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鎳鈷合金中頻感應(yīng)熔煉...中頻感應(yīng)熔煉爐功能全 面、熔煉快速、使用方便、節(jié)能環(huán)保,非常適合實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行金屬樣品研究。廣泛應(yīng)用于大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料(如 不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理和制備,也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造
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換位自轉(zhuǎn)等離子鍍膜儀本型號(hào)等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn),本設(shè)備配備換位自轉(zhuǎn)式樣品臺(tái),用戶可以在觸控屏上實(shí)現(xiàn)一鍵換位,樣品臺(tái)可在兩個(gè)靶位自由切換,本設(shè)備體積小巧造型美觀功能強(qiáng)大,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號(hào)小型等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號(hào)小型等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號(hào)小型等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),可以提升鍍膜的均勻性)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
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12英寸聚四氟腔體防...本產(chǎn)品為旋涂?jī)x也稱勻膠機(jī),是利用高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力來涂覆膜料的設(shè)備。本型號(hào)采用工業(yè)級(jí)大功率伺服電機(jī),可實(shí)現(xiàn)更好的穩(wěn)定性和均勻性
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擺臂勻膠機(jī)旋涂?jī)x擺臂勻膠機(jī)主要利用離心涂覆原理將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,該工藝在材料研究領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用
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全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x旋涂?jī)x是一種實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,主要用于制備薄膜材料,其應(yīng)用范圍包括制備太陽能電池,制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、聚合物等材料的薄膜,制備納米材料、納米結(jié)構(gòu)、納米薄膜等
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12寸防腐勻膠機(jī)旋涂...12寸防腐勻膠機(jī)旋涂?jī)x可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領(lǐng)域
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間歇式鋰電池涂布機(jī)間歇式鋰電池涂布機(jī)本著方便研究者使用,同時(shí)滿足涂布精度和一致性無異于生產(chǎn)的要求設(shè)計(jì),烘干效果優(yōu)異,是鋰離子電池、超級(jí)電容、鎳電池以及其他二次電池研發(fā)的理想之選
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實(shí)驗(yàn)室自動(dòng)卷對(duì)卷涂布...實(shí)驗(yàn)室自動(dòng)卷對(duì)卷涂布機(jī)是近年來發(fā)展起來的一種新興的實(shí)驗(yàn)室儀器。 是電氣控制與機(jī)械有機(jī)結(jié)合的一次成功**。 在涂料生產(chǎn)領(lǐng)域,可節(jié)省大量原材料,提高生產(chǎn)工藝; 關(guān)鍵是在實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上,涂層的重現(xiàn)性大大提高。 專為高校、科研院所、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室的電池材料研發(fā)和材料檢測(cè)而設(shè)計(jì)制造
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鋰離子電池狹縫擠出型...狹縫擠出型涂布機(jī),可進(jìn)行連續(xù)和間歇涂布等類型的涂布要求。設(shè)備涂布精度高,一致性穩(wěn)定性好,廣泛應(yīng)用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、光學(xué)薄膜、陶瓷薄膜、**膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)
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磁控濺射鍍膜儀的簡(jiǎn)介
磁控濺射鍍膜儀的簡(jiǎn)介磁控濺射鍍膜儀是一種**的表面鍍膜裝備,其能夠通過...[詳情]
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